[(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(V)(OH)Cl]Cl | 1021490-90-3

• 英文名称: [(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(V)(OH)Cl]Cl
• CAS: 1021490-90-3
• 化学式: C₂₂H₃₀ClNOTa*Cl
• 分子量: 576.34
• InChiKey: AMUFZMNAYVMAAW-UHFFFAOYSA-K

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(V)(OH)Cl]Cl 在 氢氧化钾 作用下， 以 水 、 甲苯 为溶剂， 以77%的产率得到[(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(V)(O)Cl]
  参考文献：
  名称：

  金属茂配位羟离子的和氧代基的Ta（V）的配合物的电化学性能：的[Cp *（CPR）TaOHCl] +氯-，R = H，森达3或（CH 2）3 NC 4 ħ 4中，Cp *（CP（CH 2）3 NC 4 H 4）TaOCl：带有钽茂配合物的导电聚合物膜的电化学沉积

  摘要：

  的三种阳离子tantalocene羟配合物的氧化还原性能，的[Cp *（CPR）的Ta V OHCl] +，其中一个pentamethylated环戊二烯基配中，Cp * =η 5 -C 5我5中，Me = CH 3，和一个单取代的环戊二烯基配位体和CPR ，Cp = C 5 H 4，R = H，SiMe 3或（CH 2）3 NC 4 H 4，以及含吡咯配体的羰基配合物，Cp *（Cp（CH 2）3 NC 4高4TaOCl已在乙腈溶液中用循环伏安法在Ta（V）还原为Ta（IV）和Ta（III）的范围内进行了研究。由于还原的复合物的解离和氯离子配体的损失，这两个转变都是不可逆的。根据羟基络合物与相应的羰基络合物Cp *（CpR）TaOCl的可逆去质子化/质子化平衡，讨论了羟基络合物还原的机理。钽茂金属配合物系列中Ta（V）/ Ta（IV）的还原电位在负方向上的变化：二氯化物>羟基>氧代，以及还原态（Ta（IV

  DOI：

  10.1016/j.electacta.2007.08.051
• 作为产物：
  描述：

  [(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(IV)Cl2] 、 氧气 在 air 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以42%的产率得到[(η5-C5Me5)(η5-C5H4(CH2)3(C4H4N))tantalum(V)(OH)Cl]Cl
  参考文献：
  名称：

  金属茂配位羟离子的和氧代基的Ta（V）的配合物的电化学性能：的[Cp *（CPR）TaOHCl] +氯-，R = H，森达3或（CH 2）3 NC 4 ħ 4中，Cp *（CP（CH 2）3 NC 4 H 4）TaOCl：带有钽茂配合物的导电聚合物膜的电化学沉积

  摘要：

  的三种阳离子tantalocene羟配合物的氧化还原性能，的[Cp *（CPR）的Ta V OHCl] +，其中一个pentamethylated环戊二烯基配中，Cp * =η 5 -C 5我5中，Me = CH 3，和一个单取代的环戊二烯基配位体和CPR ，Cp = C 5 H 4，R = H，SiMe 3或（CH 2）3 NC 4 H 4，以及含吡咯配体的羰基配合物，Cp *（Cp（CH 2）3 NC 4高4TaOCl已在乙腈溶液中用循环伏安法在Ta（V）还原为Ta（IV）和Ta（III）的范围内进行了研究。由于还原的复合物的解离和氯离子配体的损失，这两个转变都是不可逆的。根据羟基络合物与相应的羰基络合物Cp *（CpR）TaOCl的可逆去质子化/质子化平衡，讨论了羟基络合物还原的机理。钽茂金属配合物系列中Ta（V）/ Ta（IV）的还原电位在负方向上的变化：二氯化物>羟基>氧代，以及还原态（Ta（IV

  DOI：

  10.1016/j.electacta.2007.08.051