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[(C5Me5)Ga(μ3-Se)]4 | 182362-79-4

中文名称
——
中文别名
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英文名称
[(C5Me5)Ga(μ3-Se)]4
英文别名
——
[(C5Me5)Ga(μ3-Se)]4化学式
CAS
182362-79-4
化学式
C40H60Ga4Se4
mdl
——
分子量
1135.65
InChiKey
HDUIWOATMVERIN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    η1-C5Me5GaCl2双(三甲基硅烷基)硒醚甲苯 为溶剂, 以80%的产率得到[(C5Me5)Ga(μ3-Se)]4
    参考文献:
    名称:
    Synthesis of Gallium Chalcogenide Cubanes and Their Use as CVD Precursors for Ga2E3 (E = S, Se)
    摘要:
    The gallium-chalcogen heterocubanes [Cp*Ga(mu(3)-E)](4), E = S (1) and Se (2), and [Cp(+)Ga(mu(3)-Se)](4) (3) have been synthesized by dehalosilylation reactions between E(SiMe(3))(2) (E = S, Se) and RGaCl(2), R = Cp*(C(5)Me(5)) and Cp(+) (C(5)Me(4)Et), and are characterized by elemental analyses, NMR spectroscopy, and mass spectrometry. The use of compounds 1 and 2 as single-source MOCVD precursors for the low-temperature growth of Ga(2)E(3) films at 290-310 degrees C is described. The as-deposited films were amorphous; however, upon thermal annealing (500 degrees C) the films crystallized to the thermodynamic cubic phases, while the corresponding tellurium analog decomposed in the solid state at 220 degrees C forming a gallium-rich product.
    DOI:
    10.1021/om960480w
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