| 330156-09-7

• CAS: 330156-09-7
• 化学式: C₂₂H₃₇InNi₂O₂Si₃
• 分子量: 649.991
• InChiKey: RKXKBGIOISFVFQ-UHFFFAOYSA-N

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  tetrahedra-tetrakis[tris(trimethylsilyl)methyl]tetraindane(4) 、 [Ni(cyclopentadienyl)(μ-CO)]2 以 正己烷 为溶剂， 以61%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  Ni2Cp2（mu-CO）2与烷基镓（I）和烷基铟（I）化合物E4 [C（SiMe3）3] 4（E = Ga，In）的反应。ER基团插入Ni-Ni键与用等位ER配体取代CO相比。

  摘要：

  用四铟（I）化合物In4 [C（SiMe3）3] 4，1处理羰基配合物后，将单体片段In-C（SiMe3）3插入Ni2Cp2（mu-CO）2的Ni-Ni键中产物（3）在平面配位球中包含配位至一个烷基取代基的铟原子和两个Ni（Cp）CO基团。起始化合物以2：1的摩尔比反应导致两个InR基团取代两个CO配体。形成与羰基镍络合物同构的化合物（4），该化合物具有由两个InR配体和两个末端配位的环戊二烯基桥接的Ni2对。用镓衍生物Ga4 [C（SiMe3）3] 4（2）未观察到插入产物。代替，不论原料化合物的比例如何，都将分离出与4类似的镍镓络合物（5）作为唯一产物，该络合物包含两个桥接的GaR配体。根据量子化学计算，我们得出结论，没有证据表明分别在配合物4或5中存在In-In或Ga-Ga键。然而，这支持蝶形几何形状，其与起始羰基配合物Ni 2 Cp 2（mu-CO）2是同构的。

  DOI：

  10.1021/ic0005947