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[Cu(tpm*)(CO)]+ | 175442-45-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[Cu(tpm*)(CO)]+
英文别名
[Cu(tpm*)(CO)]+;[Cu(tris(3,5-dimethyl-1-pyrazolyl)methane)(CO)](1+)
[Cu(tpm*)(CO)]+化学式
CAS
175442-45-2
化学式
C17H22CuN6O
mdl
——
分子量
389.947
InChiKey
FPSOSCSLIPNTEK-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    三(3,5-二甲基-1-吡唑基)甲烷 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 1.0h, 生成 [Cu(tpm*)(CO)]+
    参考文献:
    名称:
    结合X射线衍射和理论研究表征三吡唑基甲烷异氰酸铜(I)配合物中的铜配体键
    摘要:
    摘要络合物[Cu(tpm ∗)(CNR)](BF4)(tpm ∗ =三(3,5-二甲基吡唑基)甲烷; R =二甲苯基[1](BF4),2-Cl-6-MeC6H3 [2] (BF4),Cy [3](BF4))是由[Cu(NCMe)4](BF4)与tpm ∗和CNR(CH2Cl2,20–25°C)反应制得的,并通过元素分析对其进行了表征。 ,摩尔电导率,高分辨率ESI + -MS,IR,1H和13C {1H} NMR光谱,以及[1](BF4)和[2](BF4)的X射线衍射。使用NBO和CDA分析的理论DFT(M06 / 6-31G(d))研究铜络合物结合的结果表明:(i)晶体堆积效应对[Cu(tpm ∗)( CNXyl)] +阳离子微不足道,(ii)tris-吡唑基甲烷异氰酸酯络合物中的Cu-C配位键相对强,超过50 kcal / mol,
    DOI:
    10.1016/j.ica.2016.05.031
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