tribromo(10B)borane | 28098-24-0

• 英文名称: tribromo(10B)borane
• CAS: 28098-24-0
• 化学式: BBr₃
• 分子量: 249.712
• InChiKey: ILAHWRKJUDSMFH-BJUDXGSMSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.16
• 重原子数：
  4.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tribromo(10B)borane 、 3,5-bis(dimethylamino)-1,2,4,3,5-trithiaborolane 生成 1,1-二溴-N,N-二甲基-硼烷胺
  参考文献：
  名称：

  NOETH H., BORON. CHEM. - 4. PLENARY AND SESS. LECT. 4-TH INT. MEET. BORON CHEM., SA+

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  硼烷 在 溴 作用下， 生成 tribromo(10B)borane
  参考文献：
  名称：

  卤素与激光烧蚀硼的反应：固体氩气中BXn的红外光谱（X = F，Cl，Br，I； n = 1，2，3）

  摘要：

  BX(n) (X = F, Cl, Br, I; n = 1, 2, 3) species were produced by the reaction of laser-ablated atomic boron with F2, Cl2, Br2, and I2, trapped in solid argon at 12 +/- 1 K, and characterized by infrared absorption spectroscopy. The relative band intensities observed for BX, BX2, and BX3 Species depended on the method of production. Enclosing the boron target inside a tube and codepositing boron atoms with halogen molecules enhanced the primary reaction products BX and BX2, whereas passing the halogen through the tube and coaxially mixing with atomic boron promoted the final reaction product BX3. Very low laser power favored the BX and BX2 radicals over the BX3 molecules. These studies provide further chemical evidence for the intermediate BX2 radicals.

  DOI：

  10.1021/j100121a008

文献信息

• Vibrational spectroscopic study of trimethylarsine–boron trihalide adducts
  作者：Yoshitaka Gushikem、Fumio Watari

  DOI：10.1039/dt9800002016

  日期：——

  The vibrational spectra of AsR3·10BX3(R = CH3 or CD3; X = Cl or Br) and AsR3·nBX3(R = CH3 or CD3; X = Cl, Br, or l; n = natural abundance) are reported. The BAs stretching frequencies are assigned between 640 and 740 cm–1, and the calculated force constants (2.84, 2.26, and 1.70 mdyn A–1) show that the BAs bond strength decreases for the adducts in the sequence Bl3 > BBr3 > BCl3. The order of BAs bond

  AsR 3 · 10 BX 3（R = CH 3或CD 3； X = Cl或Br）和AsR 3 · n BX 3（R = CH 3或CD 3 ; X = Cl，Br或l; n =自然丰度）。在640和740 cm –1之间指定了BA的拉伸频率，计算得出的力常数（2.84、2.26和1.70 mdyn A –1）表明，对于加合物，BAs的键合强度降低，顺序为Bl 3 > BBr 3 >氯化硼3。BAs键合强度的顺序与通过量热法确定的加合物稳定性的顺序相同。
• Noeth, Heinrich; Staudigl, Rudolf; Taeger, Tilman, Chemische Berichte, 1981, vol. 114, # 3, p. 1157 - 1175
  作者：Noeth, Heinrich、Staudigl, Rudolf、Taeger, Tilman

  DOI：——

  日期：——
• Lang, Rainer; Noeth, Heinrich; Otto, Peter, Chemische Berichte, 1985, vol. 118, # 1, p. 86 - 96
  作者：Lang, Rainer、Noeth, Heinrich、Otto, Peter、Storch, Wolfgang

  DOI：——

  日期：——
• NOETH H.; STAUDIGL R.; TAEGER T., CHEM. BER., 1981, 114, NO 3, 1157-1175
  作者：NOETH H.、 STAUDIGL R.、 TAEGER T.

  DOI：——

  日期：——
• 多環芳香族化合物
  申请人：[en]KYOTO UNIVERSITY;[ja]国立大学法人京都大学

  公开号：WO2024166913A1

  公开（公告）日：2024-08-15

  新規な多環芳香族化合物およびそれを用いた有機ＥＬ素子を提供する。　一般式（Ａ－１）で表される多環芳香族化合物により、有機デバイス用材料の選択肢を増やす。また、この新規な材料を用いて例えば有機ＥＬ素子を作製することで、優れた素子を提供する。　 上記式（Ａ－１）中、Ｒａ１～Ｒａ３、Ｒｂ１～Ｒｂ４、およびＲｃ１～Ｒｃ４は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは無置換のアリール、置換もしくは無置換のヘテロアリール、置換もしくは無置換のジアリールアミノ、置換もしくは無置換のジヘテロアリールアミノ、置換もしくは無置換のアリールヘテロアリールアミノ、置換もしくは無置換のジアリールボリル、置換もしくは無置換のアルキル、置換もしくは無置換のシクロアルキル、置換もしくは無置換のアルケニル、置換もしくは無置換のアルコキシ、置換もしくは無置換のアリールオキシ、置換もしくは無置換のアリールチオ、または置換シリルであり、ただし、Ｒａ１～Ｒａ３の少なくとも１つは、置換もしくは無置換のジアリールアミノ、置換もしくは無置換のカルバゾリル、置換もしくは無置換のアルキル、もしくは置換もしくは無置換のシクロアルキルで置換されている置換アリールであるか、または置換もしくは無置換のジアリールアミノ、置換もしくは無置換のカルバゾリル、置換もしくは無置換のアルキル、もしくは置換もしくは無置換のシクロアルキルで置換されている置換ヘテロアリールであり、Ｙ１は、Ｂ、Ｐ、Ｐ＝Ｏ、Ｐ＝Ｓ、Ａｌ、Ｇａ、Ａｓ、Ｓｉ－Ｒ、またはＧｅ－Ｒであり、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、Ｏ、Ｎ－Ｒ、Ｃ（－Ｒ）２、Ｓｉ（－Ｒ）２、Ｓ、またはＳｅであり、ただし、Ｘ１およびＸ２の少なくとも１つは、Ｎ－Ｒであり、この際、前記Ｎ－ＲのＲは式（Ｇ－１）で表される基である。