名称:
氢-甲硅烷基-komplexe:VI。ELEKTRONISCHE UND sterischeeinflüsse冯phosphin-liganden奥夫模具aktivierungs参数DER reduktiven eliminierung冯diphenylsilan AUS(η 5 -CH 3 Ç 5 ħ 4)(CO)(PR 3)的Mn(H)SiHPh 2 -komplexen
摘要:
二苯基硅烷或二乙基硅烷的光化学反应用(η 5 I-CH 3 Ç 5 ħ 4)(CO)2(PR 3)的Mn给出的类型的氢基甲硅烷复合物(η 5 -CH 3 Ç 5 ħ 4)(CO )(PR 3)的Mn(H)SiHR' 2含有MnHSi三中心键(R'= Ph值:PR 3 = PME 3,PBU 3 ñ,PPH 3,p(p -ClC 6 ħ 4)3,p(p -MeC 6H 4)3,PMe 2 Ph;R′= Et:PR 3= PBu 3 n,PPh 3)。对于大多数二苯基甲硅烷基络合物,确定了用于还原性消除二苯基硅烷的活化参数。活化焓随锰原子上电子密度的增加而增加,但随膦配体的体积增加而减小。
DOI:
10.1016/0022-328x(85)87402-7