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| 845524-51-8

中文名称
——
中文别名
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英文名称
——
英文别名
——
化学式
CAS
845524-51-8
化学式
C26H19ClN2O2Pt
mdl
——
分子量
621.982
InChiKey
HXXFWSQQRSBSIE-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 制备方法与用途
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    苯乙炔copper(l) iodide 三乙胺 作用下, 以 三乙胺N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 以82%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    二氧化硅和聚合物负载的铂(II)聚吡啶基配合物:烯烃的光敏氧化的合成及其应用。
    摘要:
    通过共价配体修饰将方形平面聚吡啶铂(II)配合物引入到二氧化硅/聚合物基质中。支持的矩阵的光物理性质作为模型复合物得以很好地保留,并且在类似条件下,单线态氧((1)O(2))产生的量子产率与TPP(四苯基卟啉)相当。在光敏氧化中的初步应用表明,二氧化硅/聚合物负载的基质是有前途的,可以通过简单过滤将其重复使用而不会损失反应性。此外,聚合物负载的基质在各种溶剂中显示出优异的相容性。
    DOI:
    10.1039/b916488j
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    二氧化硅和聚合物负载的铂(II)聚吡啶基配合物:烯烃的光敏氧化的合成及其应用。
    摘要:
    通过共价配体修饰将方形平面聚吡啶铂(II)配合物引入到二氧化硅/聚合物基质中。支持的矩阵的光物理性质作为模型复合物得以很好地保留,并且在类似条件下,单线态氧((1)O(2))产生的量子产率与TPP(四苯基卟啉)相当。在光敏氧化中的初步应用表明,二氧化硅/聚合物负载的基质是有前途的,可以通过简单过滤将其重复使用而不会损失反应性。此外,聚合物负载的基质在各种溶剂中显示出优异的相容性。
    DOI:
    10.1039/b916488j
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