tBu2CarbCO2Li(TMEDA) | 1380414-40-3

• 英文名称: tBu2CarbCO2Li(TMEDA)
• CAS: 1380414-40-3
• 化学式: C₆H₁₇LiN₂*C₂₁H₂₄NO₂
• 分子量: 446.582
• InChiKey: HAGZMQDDSVDUGC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tBu2CarbCO2Li(TMEDA) 、 三(五氟苯基)硼烷 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以94%的产率得到[Li(TMEDA)][tBu2CarbCO2B(C6F5)3]
  参考文献：
  名称：

  A Photo Lewis 酸发生器 (PhLAG)：B(C6F5)3 的受控光释放

  摘要：

  已开发出一种在 254 nm 光照射下释放强有机金属路易斯酸 B(C(6)F(5))(3) 的分子。这种光路易斯酸生成剂 (PhLAG) 现在可以光控引发由这种重要的路易斯酸催化的几种反应。本文描述了基于咔唑功能的氨基甲酸硼酸三苯基锍盐的合成，其作为 PhLAG 的建立，以及 B(C(6)F(5))(3) 的光释放在制造聚硅氧烷材料的薄膜。

  DOI：

  10.1021/ja3042977
• 作为产物：
  描述：

  3,6-二叔丁基咔唑 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 、 二氯甲烷 、 甲苯 为溶剂， 20.0 ℃ 、202.66 kPa 条件下， 反应 1.17h， 生成 tBu2CarbCO2Li(TMEDA)
  参考文献：
  名称：

  A Photo Lewis 酸发生器 (PhLAG)：B(C6F5)3 的受控光释放

  摘要：

  已开发出一种在 254 nm 光照射下释放强有机金属路易斯酸 B(C(6)F(5))(3) 的分子。这种光路易斯酸生成剂 (PhLAG) 现在可以光控引发由这种重要的路易斯酸催化的几种反应。本文描述了基于咔唑功能的氨基甲酸硼酸三苯基锍盐的合成，其作为 PhLAG 的建立，以及 B(C(6)F(5))(3) 的光释放在制造聚硅氧烷材料的薄膜。

  DOI：

  10.1021/ja3042977