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[EtZnOiPr]4 | 168836-09-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[EtZnOiPr]4
英文别名
ethylzinc isopropoxide
[EtZnO<sup>i</sup>Pr]<sub>4</sub>化学式
CAS
168836-09-7
化学式
C20H48O4Zn4
mdl
——
分子量
614.159
InChiKey
CMHTZUFSTLEYNL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    [EtZnOiPr]4 生成 zinc(II) oxide
    参考文献:
    名称:
    从预组织且无卤素的前驱体通过气溶胶辅助途径制备低E透明导电掺杂镓的氧化锌涂层
    摘要:
    通过使用玻璃窗可实现低排放窗口的热控制,玻璃窗在可见光中同时具有光学透明性,而在近红外(IR)中具有反射性。这种现象是具有宽光学带隙的涂层的特征,该涂层具有足够高的电荷载流子浓度以使材料与IR区域中的电磁辐射相互作用。传统的低辐射涂层由氧化物和薄的Ag薄膜或氟化SnO 2涂层的夹层结构组成,而基于ZnO的玻璃提供了具有竞争性光电特性的环境稳定且经济的替代方案。在这项工作中,镓掺杂的氧化锌(GZO)涂层的低辐射涂层性能超过了工业标准(T可见> 82%;R 2500 nm > 90%; λ (等离子体) = 1290 nm; ρ = 4.7×10 -4 Ω厘米; R sh = 9.4Ω·□ -1)通过可持续的,环境友好的无卤沉积途径从[Ga(acac)3 ]和预组织的氧化锌前体[EtZnO i Pr] 4(1)沉积。单罐气溶胶辅助化学气相沉积。GZO膜具有高度(002)纹理,光滑且致密,无需外
    DOI:
    10.1039/d0sc00502a
  • 作为产物:
    描述:
    diethylzinc异丙醇正己烷甲苯 为溶剂, 以89%的产率得到[EtZnOiPr]4
    参考文献:
    名称:
    从预组织且无卤素的前驱体通过气溶胶辅助途径制备低E透明导电掺杂镓的氧化锌涂层
    摘要:
    通过使用玻璃窗可实现低排放窗口的热控制,玻璃窗在可见光中同时具有光学透明性,而在近红外(IR)中具有反射性。这种现象是具有宽光学带隙的涂层的特征,该涂层具有足够高的电荷载流子浓度以使材料与IR区域中的电磁辐射相互作用。传统的低辐射涂层由氧化物和薄的Ag薄膜或氟化SnO 2涂层的夹层结构组成,而基于ZnO的玻璃提供了具有竞争性光电特性的环境稳定且经济的替代方案。在这项工作中,镓掺杂的氧化锌(GZO)涂层的低辐射涂层性能超过了工业标准(T可见> 82%;R 2500 nm > 90%; λ (等离子体) = 1290 nm; ρ = 4.7×10 -4 Ω厘米; R sh = 9.4Ω·□ -1)通过可持续的,环境友好的无卤沉积途径从[Ga(acac)3 ]和预组织的氧化锌前体[EtZnO i Pr] 4(1)沉积。单罐气溶胶辅助化学气相沉积。GZO膜具有高度(002)纹理,光滑且致密,无需外
    DOI:
    10.1039/d0sc00502a
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文献信息

  • Field-effect transistor performance of zinc oxide thin films derived from molecular based alkoxyalkyl zinc compounds
    作者:Rudolf C. Hoffmann、Stefan Dilfer、Alexander Issanin、Jörg J. Schneider
    DOI:10.1002/pssa.201026694
    日期:2011.7
    Solution processed zinc oxide thin films are derived from different organometallic alkoxyalkyl zinc compounds [Zn(OR 1 )R 2 ] 4 and their performance in field-effect transistors (FETs) has been studied systematically. The influence of various residues R 1 or R 2 on the decomposition behaviour of the organometallic precursors and the resulting film morphology is discussed. The performance of the FETs could
    溶液处理的氧化锌薄膜来源于不同的有机属烷氧基烷基化合物[Zn(OR 1 )R 2 ] 4 ,并且已经系统地研究了它们在场效应晶体管(FET)中的性能。讨论了各种残基R 1 或R 2 对有机属前体分解行为和所得薄膜形貌的影响。FET 的性能可以通过使用氢等离子体进行后处理来提高,从而提高电子载流子迁移率以及稳定的开/关比。
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