(R2R'SiO)3TaCl2(R = tBu,R'= H,Me,Ph,tBu(silox); R = iPr,R'= tBu,iPr)的还原过程取决于氧化硅的大小。
摘要:
各种尺寸的氧化硅(Cy(3)SiO>(t)Bu(3)SiO>(t)Bu(2)PhSiO>(t)Bu(2)MeSiO近似(i)Pr(2)(t)BuSiO>( i)Pr(3)SiO>(t)Bu(2)HSiO)用于制备(R(2)R'SiO)(3)TaCl(2)(R =(t)Bu,R'= H( 1-H),Me(1-Me),Ph(1-Ph),(t)Bu(1); R =(i)Pr,R'=(t)Bu(1-(i)Pr(2 )); R = R'=(i)Pr(1-(i)Pr(3)); R = R'=(c)Hex(Cy))。几种二氯化钠钠汞齐还原的产品分析表明,[(R(2)R'SiO)(3)Ta](2)(mu-Cl)(2)可能是常见的中间体。当氧化硅较大(1-(t)Bu)时,会通过歧化作用形成Ta(III)物种((t)Bu(3)SiO)(3)Ta(6)。当氧化硅较小时,Ta(IV)中间体是稳定的(例如[[((i