Aluminium--vanadium (6/5) | 61456-00-6

• 英文名称: Aluminium--vanadium (6/5)
• 英文别名: alumane;vanadium
• CAS: 61456-00-6
• 化学式: Al₈V₅
• 分子量: 470.56
• InChiKey: ITEIDUGWOZVXRP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -7.12
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  钒 、 氢化铝 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 Aluminium--vanadium (6/5)
  参考文献：
  名称：

  三元体系：CrAlC，VAlC和TiAlC以及H相（M 2 AlC）的行为

  摘要：

  已经研究了三元体系CrAlC，VAlC和TiAlC中的相位关系。证实了所有先前报道的三元H相Me 2 AlC（Me = Cr，V，Ti）和钙钛矿相Ti 3 AlC。找不到新的三元相。在1000℃下，Ti 2 AlC和Ti 3 AlC共存。另外，发现H相与TiC 1- x，TiAl 3和TiAl处于平衡状态。具有TiC 1- x，Ti 3 Al和Ti的钙钛矿（固溶有Al）。TiC 1- x与Al（l）在高于800°C的温度下共存。V 2 AlC与Al在1000°C共存4 Ç 3，铝（1），铝3 V，V' 7的Al 8，V（用Al固溶体），V 2 C，ζ-VC 1- X，和VC 1- X（包括V 8 C ^ 7）。在1000℃下的Cr 2 ALC是在用Al平衡4 Ç 3，γ-铬5的Al 8，铬（用Al固溶体），CR 7 Ç 3和Cr 3 C ^ 2。在800℃下的Cr 2 ALC共存也与石墨和β铬2的Al。V

  DOI：

  10.1016/0022-4596(80)90569-1

文献信息

• Nitridation of V5Al8 films with NH3 by Rapid Thermal Processing (RTP)
  作者：H. Lewalter、B. O. Kolbesen

  DOI：10.1002/zaac.200300119

  日期：2003.9

  RF-Sputtern deponiert und mit Ammoniak bei 600-1250 °C (1 min) in einem RTP-System nitridiert. Diese Filme wurden mit Hilfe von ESCA (electron spectroscopy for chemical analysis), XRD (Rontgenbeugung), XRR (Rontgenreflektometrie), AFM (atomic force microscopy) and SEM (scanning electron microscopy) untersucht. Die Bildung einer Aluminiumnitrid-Schicht auf der Oberflache und die Ausscheidung von V(Al) im Volumen

  V5Al8 薄膜（厚度约 100 nm）通过射频溅射沉积在蓝宝石衬底上，并在 RTP 系统中在 600-1250°C（1 分钟）下用 NH3 氮化。通过ESCA（用于化学分析的电子能谱）、XRD（X射线衍射）、XRR（X射线反射计）、AFM（原子力显微镜）和SEM（扫描电子显微镜）研究沉积和氮化膜。发现在表面形成氮化铝层并在本体中析出 V(Al)。在 600 °C 至 900 °C 的温度范围内，大量的氧被结合到氮化铝层中。表面的粗糙度随着温度的升高而增加，并且在 1250°C 时可以观察到 AlN 层的部分分离。Nitridierung von V5Al8-Filmen mit Ammoniak Rapid Thermal Processing (RTP) Etwa 100 nm dicke V5Al8-Filme wurden auf einem Saphirsubstrat durch
• Mechanistic insight into the influence of Al2O3 concentration on the electro-reduction of V2O3 to vanadium in molten Na3AlF6
  作者：Yapeng Kong、Jianshe Chen、Binchuan Li、Kuiren Liu、Qing Han

  DOI：10.1016/j.electacta.2018.10.155

  日期：2019.2

  The influence of Al2O3 concentration on the direct electrochemical reduction of porous vanadium sesquioxide precursors in molten Na3AlF6 was investigated by constant voltage electrolysis and cyclic voltammetry. The products obtained by electrolysis at various Al2O3 concentrations were examined by XRD and SEM. Specifically, the morphologies of the outer metal layer initially formed were characterized by SEM and EDS, also their effects on the electrolysis process were systematically studied. The results indicate that the Al2O3 concentration in molten Na3AlF6 has a significant impact on the reduction process. When 0.5 mass% Al2O3 is added into molten Na3AlF6, the reduction rate of V2O3 can be improved because of the appropriate increase of aluminium reductant and relatively high oxide ion transfer rate. However, a high Al2O3 concentration (1.0-3.0 mass%) causes the massive precipitation of aluminium at cathodic outer metal layer and further forms Al-V alloy, causing the densification of the outer metal layer and hampering the reduction reaction kinetics. (C) 2018 Elsevier Ltd. All rights reserved.