N-Butyl-N-[(nonafluorobutyl)sulfonyl]glycine | 864069-45-4

• 英文名称: N-Butyl-N-[(nonafluorobutyl)sulfonyl]glycine
• 英文别名: 2-[butyl(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)amino]acetic acid
• CAS: 864069-45-4
• 化学式: C₁₀H₁₂F₉NO₄S
• 分子量: 413.26
• InChiKey: TVTJZXMSCKBVKL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.9
• 拓扑面积：
  83.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  14

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  C4F9SO2N(C4H9)CH2CO2C2H5 、 氢氧化钾 、 水 在 异丙醇 、 水 、 硫酸 作用下， 以 异丙醇 为溶剂， 56.0~147.0 ℃ 、63.99 kPa 条件下， 反应 2.0h， 以to yield a creme colored solid, C4F9SO2N(C4H9)CH2CO2H的产率得到N-Butyl-N-[(nonafluorobutyl)sulfonyl]glycine
  参考文献：
  名称：

  FLUORINATED SULFONAMIDE SURFACTANTS FOR AQUEOUS CLEANING SOLUTIONS

  摘要：

  描述了阴离子N取代的氟磺酰胺表面活性剂，以及在清洗和酸蚀溶液中的使用。这些清洗和蚀刻溶液可用于各种基底，例如，用于清洗和蚀刻含有氧化硅的基底。

  公开号：

  US20100320416A1

文献信息

• Fluorinated sulfonamide surfactants for aqueous cleaning solutions
  申请人：Savu M. Patricia

  公开号：US20050197273A1

  公开（公告）日：2005-09-08

  Described are anionic N-substituted fluorinated sulfonamide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.

  本文介绍了阴离子N-取代的氟磺酰胺表面活性剂及其在清洗和酸蚀溶液中的应用。这些清洗和蚀刻溶液可用于各种基底，例如用于清洗和蚀刻含有氧化硅的基底。