我们首次报道了使用基于四(二乙
氨基二
硫代碳)
钼酸盐(IV)(缩写为 Mo(Et2
NCS2)4)的单源前驱体直接沉积结晶
硫化
钼 (MoS2)。已经使用原位 X 射线光电子能谱研究了吸附在一系列基材(
硅、
锗、镀
金锗、
镍等)上的这种前体的
化学性质。Mo(Et2
NCS2)4 前驱体可在 300 °C 下蒸发;它的蒸气在室温下吸附在大多数表面上,并在 400 °C 时分解形成结晶 MoS2。使用这种方法,第一次可以通过一步热蒸发工艺在
镍上生长高质量的基面取向 MoS2。有趣的是,选择与
金形成共晶合
金的元素基材有利于从 MoS2 薄膜中消除
硫。这导致在 Au 和衬底元素的共晶温度下形成 Mo 
金属间化合物。四方
MoSi2或o的前所未有的低温生长...