[In(thd)(3)](thd = 2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dionate)在
CH2Cl2 中的悬浮液在 450 摄氏度的气溶胶辅助
化学气相沉积 (
AACVD) 中得到薄结晶氧化
铟薄膜。通过扫描电子显微镜 (
SEM)、掠射角 X 射线衍射 (XRD) 和 X 射线能量色散分析 (EDX) 对薄膜进行分析。[In(thd)(3)] 的溶解度差阻碍了生长更厚薄膜的努力,因此合成 [M(bdk)(2)X] 型杂配化合物 (M = Ga, In; bdk =
β-二酮;X =
氯化物、
氢化物、甲基),这样可以通过调整
金属中心周围的
配体来提高溶解度。
化学计量的
β-二酮 [Hthd 和
2,4-戊二酮(
乙酰丙酮,Hacac)] 与
GaH3 的路易斯碱稳定加合物仅导致分离出均配
镓三(
β-二酮)化合物 [Ga(bdk)(3)],而不是预期的杂配
镓双(
β-二酮)
氢化物