dihydrido(oxo)vanadium | 324530-71-4

• 英文名称: dihydrido(oxo)vanadium
• CAS: 324530-71-4
• 化学式: H₂OV
• 分子量: 68.9568
• InChiKey: CAPUHGBZCKFUEE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.66
• 重原子数：
  2.0
• 可旋转键数：
  0.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.07
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  1.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  钒 、 水 在 乙烯 作用下， 以 solid matrix 为溶剂， 生成 vanadium dihydride 、 dihydrido(oxo)vanadium
  参考文献：
  名称：

  乙烯插入通过钒原子与水或乙烯反应形成的氢化钒中间体中：基质分离红外光谱研究。

  摘要：

  V原子与H2O和氩气中各种浓度的C2D4的反应已通过基质隔离红外（IR）光谱进行了研究。观察到C2D6和CD2H-CD2H都是涉及乙烯加氢的一系列平行过程的主要产物，其中氢的正式来源为C2D4或H2O。首次观察到在氩气基质中分离出的CD2H-CD2H的红外光谱的一部分。对于涉及低浓度C2D4的实验，用波长> 455 nm的光照射基质会形成VH2，而对乙烯氢化的观察有限。据信，H 2的来源是由于在基质沉积过程中，从OV-VH物种中分子氢的光消除作用，其中OV作为另外的产物。在低乙烯条件下，OV与H2在基质中的有效结合被认为是OVH2的来源。在我们的条件下没有观察到VD2形成的证据。在较高的C2D4浓度下，VH2的形成受到抑制，而乙烯氢化的产物则最大化。提出了与H2消除竞争的第二种方法，其中HO-VH与C2D4反应。提出了将V原子插入水的OH键中或将V原子光诱导插入C2D4的CD键中的并行反应

  DOI：

  10.1021/ic701653v

文献信息

• Reactions of Group V Metal Atoms with Water Molecules. Matrix Isolation FTIR and Quantum Chemical Studies
  作者：Mingfei Zhou、Jian Dong、Luning Zhang、Qizong Qin

  DOI：10.1021/ja003072z

  日期：2001.1.1

  Laser-ablated group V metal atoms (V, Nb, Ta) were co-deposited with water molecules in excess argon. The V atoms reacted with water to form the inserted HVOH molecule spontaneously. The Nb atoms reacted with water to form the NbOH2 complex and the inserted HNbOH molecule. Broad-band photolysis produced the H2VO and H2NbO molecules as well as the VO and NbO monoxides. For Ta + H2O reactions, neither TaOH2

  激光烧蚀的 V 族金属原子（V、Nb、Ta）与过量氩气中的水分子共沉积。V原子与水反应自发形成插入的HVOH分子。Nb 原子与水反应形成 NbOH2 复合物和插入的 HNbOH 分子。宽带光解产生 H2VO 和 H2NbO 分子以及 VO 和 NbO 一氧化物。对于 Ta + H2O 反应，既没有观察到 TaOH2 也没有观察到 HTaOH，而在退火时产生了 H2TaO 分子，在光解时没有观察到 H2 消除过程。上述物种是通过同位素置换以及密度泛函计算确定的。建议对导致观察到的产物的可能反应路径进行定性分析。