Magnesium aluminum silicate | 12511-31-8

• 物质功能分类: 无机化工 - 无机盐 - 硅化物及硅酸盐
• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 后过渡金属氧阴离子化合物
• 英文名称: Magnesium aluminum silicate
• 英文别名: aluminum;magnesium;silicate
• CAS: 12511-31-8；1327-43-1
• 化学式: 2Al*3Mg*3O₄Si
• 分子量: 403.127
• InChiKey: WMGSQTMJHBYJMQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  2.11g/cm3 at 19.8℃
• LogP：
  0.650 (est)
• 稳定性/保质期：

  这是复合的胶态物质，其典型的化学组成包括：二氧化硅61.1%，氧化镁13.7%，氧化铝9.3%，二氧化钛0.1%，氧化铁0.9%，氧化钙2.7%，氧化钠2.9%，氧化钾0.3%，二氧化碳1.8%，以及结合水7.2%。它呈白色的小片状或粉末状，无味且无臭，质地柔软而滑爽，含水量低于8%。硅酸镁铝不溶于水或醇，在水中可膨胀成体积比原来大许多倍的胶态分散体。其5%水分散体的黏度约为0.25Pa·s±25%，pH值（4%水分散体）约为9。要使1g硅酸镁铝的pH降低至4，大约需要6~8mL 0.1mol/L HCl。

  硅酸镁铝具有可逆的膨胀性，在水中可以分散，干燥后也能重新水合，无论经过多少次。它通常用于低固体含量的水分散体中，并在广泛的pH范围内稳定。当硅酸镁铝分散于水中时，会形成胶态溶胶和凝胶。其水分散体的黏度随含量变化而不同：1%~2%的含量下为胶态悬浮体；大于8%时变成非透明体，黏度迅速增加；4%~5%时成为浓稠的白色溶胶；10%时形成坚硬的溶胶。硅酸镁铝通常用量在0.5%~2.5%之间。

  硅酸镁铝水分散体具有明显的变性特征。配制分散体时，需适当加热并延长搅拌时间以达到所需的黏度。与少量纤维素胶混合时，能显著提高黏度并保持长期稳定。此外，当遇到某些电解质时，其水分散体会变得更为稠厚，甚至部分凝聚。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -5.9
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  92.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

制备方法与用途

生产方法： 将硅酸钠、硫酸铝、食品级氧化镁、铝酸钠及氢氧化钠等原料制成高浓度水溶液，按先后顺序和适当比例加入反应釜中，边冷却边搅拌。反应一定时间后，进行压滤、洗涤、干燥，即可得到成品。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Magnesium aluminum silicate 、 甲基丙烯酸甲酯 、 甲基丙烯酸丁酯 、 丙烯酸丁酯 、 3-(异丁烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷 、 dipotassium;sulfonatooxy sulfate 在 氮 、 Magnesium aluminum silicate 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 2-丙烯酸丁酯与2-丙烯酸-2-乙基己酯的聚合物
  参考文献：
  名称：

  Photoreactive agent containing photoreactive semiconductor for removing harmful materials

  摘要：

  提供一种用于去除有害物质的光反应剂，包括基底和在基底的至少一侧形成的包含光反应半导体和有机微粒子涂覆无机微粒子的层。提供一种用于去除有害物质的光反应剂，包括基底，在基底的至少一侧依次形成的包含光反应半导体和包含有机微粒子涂覆无机微粒子的层。提供一种用于去除有害物质的光反应剂，包括基底，在基底的至少一侧依次形成的包含光反应半导体、含有膜形成无机微粒子和疏水剂的层。提供一种用于去除有害物质的光反应剂，包括基底，在基底的至少一侧依次形成的包含光反应半导体、含有膜形成无机微粒子和含有疏水剂的层。这些用于去除有害物质的光反应剂具有优异的去除异味等有害物质的能力，具有耐水性，长时间不会改变特性，易于生产。

  公开号：

  US06346253B2
• 作为产物：
  描述：

  pyrophyllite 、 magnesium carbonate 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 Magnesium aluminum silicate
  参考文献：
  名称：

  叶蜡石矿物的烧结行为：一些碱金属和碱土金属碳酸盐的影响

  摘要：

  叶蜡石矿物用等摩尔比的碱金属和碱土金属碳酸盐在 1000°C 下热处理 2 小时，并使用 X 射线粉末衍射和红外光谱研究在烧结产品中形成的各种相。使用扫描电子显微镜研究产物的形貌。在每种情况下都观察到各自阳离子的铝硅酸盐相的形成，但未检测到烧结产品中莫来石的存在。

  DOI：

  10.1007/bf01166022
• 作为试剂：
  描述：

  7-[4-(4-fluoro-phenyl)-1-methyl-butyl]-2,2-dimethyl-4-pyridin-4-yl-2H-chromen-5-ol 、 乙酸酐 在 苯 、 水 、 magnesium sulfate 、 Magnesium aluminum silicate 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 5-acetoxy-2,2-dimethyl-7-[5-(4-fluorophenyl)-2-pentyl]-4-(pyridin-4-yl)-2H-1-benzopyran
  参考文献：
  名称：

  2,4,7-substituted 5-hydroxy benzopyrans and esters

  摘要：

  2,4,7-取代的5-羟基苯并吡喃和二氢苯并吡喃及其酯，由以下式子表示： ##SPC1## 其中每个R.sub.1是低碳基，R.sub.2是氢、低碳酰基或 ##SPC2## 其中Y是直链或支链烷基，其碳原子数为1-8；a是1-4的整数；b是1-4的整数；X是CH.sub.2、O、S或NR.sub.5，其中R.sub.5是氢或低碳基，但当X是O、S或NR.sub.5时，a和b的和为3或4，R.sub.4是氢或低碳基；R.sub.3是 ##SPC3## 其中Y'是直链或支链烷基，其碳原子数为1-10；每个R.sub.7、R.sub.8和R.sub.9是氢、卤、三氟甲基或低碳基，以及其药学上可接受的盐。

  公开号：

  US03947462A1

文献信息

• PHOTOREACTIVE AGENT FOR REMOVING HARMFUL MATERIALS
  申请人：——

  公开号：US20020006425A1

  公开（公告）日：2002-01-17

  The present invention provides a photoreactive agent for removing harmful materials which comprises a substrate and a layer containing a photoreactive semiconductor and organic fine particles coated with inorganic fine particles which is formed on at least one side of the substrate; a photoreactive agent for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor and a layer containing organic fine particles coated with inorganic fine particles which layers are formed in that order on at least one side of the substrate; a photoreactive agent for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor and a layer containing film-forming inorganic fine particles and a water repellent which layers are formed in that order on at least one side of the substrate; and a photoreactive agent for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor, a layer containing film-forming inorganic fine particles and a layer containing a water repellent which layers are formed in that order on at least one side of the substrate. Said photoreactive agents for removing harmful materials are excellent in ability to remove harmful materials such as malodor, are water-resistant, are not changed in characteristics over a long period of time, and can easily be produced.

  本发明提供了一种光敏剂，用于去除有害物质，其中包括基底和涂有无机细粒子的有机细粒子层以及包含光敏半导体的层，该层形成在基底的至少一侧；一种去除有害物质的光敏剂，包括基底、包含光敏半导体的层和包含涂有无机细粒子的有机细粒子的层，这些层按顺序形成在基底的至少一侧；一种去除有害物质的光敏剂，包括基底、包含光敏半导体的层、包含成膜无机细粒子和疏水剂的层，这些层按顺序形成在基底的至少一侧；以及一种去除有害物质的光敏剂，包括基底、包含光敏半导体的层、包含成膜无机细粒子和包含疏水剂的层，这些层按顺序形成在基底的至少一侧。这些去除有害物质的光敏剂具有出色的去除恶臭等有害物质的能力，耐水性强，长期内不会改变特性，而且易于生产。