6-重氮基-5,6-二氢-5-氧代萘-1-磺酸对甲苯酯 | 80370-33-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 6-重氮基-5,6-二氢-5-氧代萘-1-磺酸对甲苯酯
• 中文别名: 5-(氨基磺基基)-N-[(1-乙基-2-吡咯烷基)甲基]-2,3-二甲氧基苯酰胺
• 英文名称: 4-tolyl 1-oxo-2-diazo-1,2-dihydrobenzene-5-sulfonate
• 英文别名: 1-hydroxy-5-p-tolyloxysulfonyl-naphthalene-2-diazonium-betaine；6-Diazo-5-oxo-5,6-dihydro-naphthalin-1-sulfonsaeure-p-tolylester；1-Hydroxy-5-p-tolyloxysulfonyl-naphthalin-2-diazonium-betain；(4-methylphenyl) (6E)-6-diazo-5-oxonaphthalene-1-sulfonate
• CAS: 80370-33-8
• 化学式: C₁₇H₁₂N₂O₄S
• 分子量: 340.359
• InChiKey: IYVXYACGWZOENU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.6
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-重氮基-5,6-二氢-5-氧代萘-1-磺酸对甲苯酯 以 水 、 溶剂黄146 为溶剂， 反应 30.0h， 以86%的产率得到1H-茚-3-羧酸,7-[(4-甲基苯氧基)磺酰]-
  参考文献：
  名称：

  Baumbach, B.; Bendig, J.; Nagel, T., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1991, vol. 333, # 4, p. 625 - 635

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对甲酚 、 2-重氮-1-萘酚-5-磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 1.0h， 以83%的产率得到6-重氮基-5,6-二氢-5-氧代萘-1-磺酸对甲苯酯
  参考文献：
  名称：

  Baumbach, B.; Bendig, J.; Nagel, T., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1991, vol. 333, # 4, p. 625 - 635

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Dynamics of the Wolff rearrangement of six-membered ring o-diazoketones by laser flash photolysis
  作者：Katsumi Tanigaki、Thomas W. Ebbesen

  DOI：10.1021/j100348a028

  日期：1989.6
• Positive Photosensitive Resin Composition, Method for Producing Film Using Same, and Electronic Component
  申请人：CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160266491A1

  公开（公告）日：2016-09-15

  A positive photosensitive resin composition according to the present invention contains at least (A) a polysiloxane compound having at least a structural unit of the general formula (1), (B) a photoacid generator or quinone diazide compound and (C) a solvent [(R X ) b R 1 m SiO n/2 ]  (1) where R X represents the following group; R 1 each represents a hydrogen atom, C 1 -C 3 alkyl group, phenyl group, hydroxy group, C 1 -C 3 alkoxy group or C 1 -C 3 fluoroalkyl group; b represents an integer of 1 to 3; m represents an integer of 0 to 2; n represents an integer of 1 to 3; and b, m and n satisfy b+m+n=4, where X each represents a hydrogen atom or acid labile group; and a represents an integer of 1 to 5. It is possible by the use of this positive photosensitive resin composition to provide a film with high resistance and heat-resistant transparency and provide an electronic component with such a film.
• US9778569B2
  申请人：——

  公开号：US9778569B2

  公开（公告）日：2017-10-03