(iododimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)(methyldiphenylsilyl)methane | 78752-28-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: (iododimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)(methyldiphenylsilyl)methane
• 英文别名: Iodo-dimethyl-[[methyl(diphenyl)silyl]-bis(trimethylsilyl)methyl]silane
• CAS: 78752-28-0
• 化学式: C₂₂H₃₇ISi₄
• 分子量: 540.782
• InChiKey: AKGJWNGETSODJB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.55
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (iododimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)(methyldiphenylsilyl)methane 在 silver nitrate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.25h， 以80%的产率得到dimethylnitratosilyl(methyldiphenylsilyl)bis(trimethylsilyl)methane
  参考文献：
  名称：

  Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.; Ayoko, G. Adefikayo; Eaborn, Colin, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1995, vol. 132, p. 517 - 521

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  methyldiphenyl[(dimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)methyl]silane 在 三甲基苯基硅烷 、 碘 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 反应 3.0h， 以77%的产率得到(iododimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)(methyldiphenylsilyl)methane
  参考文献：
  名称：

  Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.; Ayoko, G. Adefikayo; Eaborn, Colin, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1995, vol. 132, p. 517 - 521

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photo-induced reactions of an organosilicon iodide
  作者：Colin Eaborn、Kazem D. Safa、Alfred Ritter、Werner Binder

  DOI：10.1039/c39810000175

  日期：——

  The results of u.v. irradiation of (Me3Si)CSiPh2I in MeOH, n-C6H14, CCl4 Et2O, and PhoMe are interpreted in terms of the formation of cationic as well as free-radical organosilicon intermediates.

  紫外光照射（Me 3 Si）CSiPh 2 I在MeOH，nC 6 H 14，CCl 4 Et 2 O和PhoMe中的结果解释为阳离子以及自由基有机硅中间体的形成。
• Rates of solvolysis of the compounds (Me3Si) 2(Ph2MeSi) CSiMe2X, X  I, OSO2 CF3 and OCN. Mechanistic implications
  作者：Mohammad A.M.R. Al-Guarashi、G.Adefikayo Ayoko、Colin Eaborn、Paul D. Lickiss

  DOI：10.1016/0022-328x(95)00319-l

  日期：1995.9

  Comparisons of the rates of reaction of the compounds (Me3Si)3 CSiMe2X, with X  I (1a) or OCN (1c), with those of the corresponding compounds (Me3Si)2(Ph2MeSi)CSiMe2X (2a–c), point to the following conclusions. (a) With 3 : 1 (v/v) MeOHCCl4 the iodide 2a reacts by an ionization process, in which a γ-Ph group assists leaving of I−, whereas 1a reacts by a direct bimolecular displacement mechanism. (b) With

  化合物（Me 3 Si）3 CSiMe 2 X与XI（1a）或OCN（1c）与相应化合物（Me 3 Si）2（Ph 2 MeSi）CSiMe的反应速率的比较2 X（2a–c），指向以下结论。（a）用3：1（V / V）MeOHCCl 4碘化物2a中通过电离过程，其中γ-Ph基团有助于留下的余发生反应- ，而1A通过直接双分子位移机构发生反应。（b）含5％H 2 O-二恶烷或6％H 2○在4：1MeCnCCl 4，两者的反应图2a和图1A涉及在硅直接的亲核攻击，象该氰酸2c中，用10：1的CD 3 ODCDCl 3（含有少量水），朝向图2c是碘化物2a的> 600倍。（c）与1：3 CF 3 CO 2 HCDCl 3，1：3 3：1 CF 3 CH 2 OHCDCl 3，图2a（它比更反应性1a中由电离机构中的所有这些培养基）反应。（d）三氟甲磺酸盐2b可能通过电离机理（尽管比碘化物2a容易得多）但通过与3：1
• Eaborn, Colin; Safa, Kazem D.; Ritter, Alfred, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1982, p. 1397 - 1402
  作者：Eaborn, Colin、Safa, Kazem D.、Ritter, Alfred、Binder, Werner

  DOI：——

  日期：——
• Sterically-Hindered organosilicon perchlorates
  作者：Sujan S. Dua、Colin Eaborn

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)82468-7

  日期：1981.1
• Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.; Ayoko, G. Adefikayo; Eaborn, Colin, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1995, vol. 132, p. 517 - 521
  作者：Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.、Ayoko, G. Adefikayo、Eaborn, Colin、Lickiss, Paul D.

  DOI：——

  日期：——